Vision 320 RIE daje możliwość trawienia plazmowego w ośrodkach R&D, prototypowaniu i nisko-objętościowej produkcji. Systemy te oparte na konstrukcji dwóch równoległych elektrod znajdują zastosowanie w takich aplikacjach jak fundamentalne badania materiałowe, modyfikacja powierzchni i wytwarzanie urządzeń półprzewodnikowych.

Vision 320 RIE, który można znaleźć zarówno w ośrodkach akademickich, jak i środowiskach przemysłowych, jest połączeniem małych rozmiarów oraz dużych możliwości i skupia się na prostocie użytkowania i niskich kosztach obsługi. Reaktor spełnia wysokie wymagania niezawodności dla takich krytycznych aplikacji jak rozwarstwianie materiałów, gdzie produkcja jest uzależniona od ciągłych danych z działu analiz zniszczenia.