LAPECVD™ firmy Plasma-Therm pracujący w konfiguracji cassette-to-cassette oraz posiadający dużą przestrzeń roboczą i konstrukcję dwóch równolegle ułożonych elektrod w komorze reaktora, umożliwiananoszenie warstw jednocześnie na dużej ilości podłożypółprzewodnikowych w szerokim zakresie aplikacji. Platforma ta może być wykorzystana do osadzania cienkich warstw z wielu zróżnicowanych materiałów.