MC-200 firmy Annealsys został specjalnie zaprojektowany z myślą o wymaganiach ośrodków badawczo-rozwojowych zajmujących się procesami MOCVD. Parowniki do bezpośredniego wtrysku cieczy (DLI) dają doskonałą kontrolę przepływu prekursorów i pozwalają na wykorzystanie prekursorów o niskiej prężności par i rozcieńczonych prekursorów chemicznych. Opcja instalacji generatora plazmy umożliwia przeprowadzanie procesów PE-CVD i PE-ALD w obniżonej temperaturze.