OFERTA

MC-100

Producent Annealsys
Aplikacja: Charakterystyka powierzchni / Inżynieria powierzchni, Inżynieria materiałowa,
Kategoria: Szybka obróbka cieplna,
Karta produktu: [ Pobierz ]

MC-100 jest reaktorem do procesów DLI-CVD i DLI-ALD w ośrodkach badawczo-rozwojowych. Podwójna konfiguracja komory pozwala na przeprowadzanie w jej wnętrzu procesów zarówno CVD, jak i ALD. Parowniki do bezpośredniego wtrysku cieczy (DLI) dają doskonałą kontrolę przepływu prekursorów i pozwalają na wykorzystanie prekursorów o niskiej prężności par i rozcieńczonych prekursorów chemicznych. Automatyczny panel cieczy został zoptymalizowany dla obniżenia zużycia prekursorów chemicznych. Konstrukcja pozwala na łatwą wymianę i uzupełnienie prekursorów.